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產品型號：STSQ-200-12

爐膛尺寸：φ200×400mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：本設備用于高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業對陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、醫療行業、新材料開發、特種材料、建材、金屬、非金屬及其它化和物材料進行真空釬焊熱處理。

產品型號：STV-422-13

爐膛尺寸：φ390×600mm

額定溫度：1300℃

控溫精度：±1℃

應用領域：本設備用于高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業對陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、醫療行業、新材料開發、特種材料、建材、金屬、非金屬及其它化和物材料進行真空釬焊熱處理。

產品型號：STQ-500-14

爐膛容積：500L

額定溫度：1400℃

控溫精度：±1℃

應用領域：箱式氣氛爐爐體法蘭式密封結構，在材料的熱處理過程中，可以通入氮氣、氬氣、氧氣等保護氣體，用于碳材料、金屬材料、生物質材料的熱處理，也可用于鋰電池三元材料的燒結

產品型號：STGP-80-12

爐膛尺寸：Φ80x1200mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：PECVD系統（等離子增強化學氣相沉積系統）由管式爐、真空獲得、流量控制和射頻電源四大模塊組成， 本設備借助13.56Mhz的射頻輸出使含有薄膜組成原子的氣體電離，在真空腔體內形成等離子體，利用等離子的強化學活性，改善反應條件，使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應，從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術，得到基片上沉積出所期望的薄膜，適用于1200℃條件下進行SiO2、SiNx薄膜的沉積。

產品型號：STG-60-12-2Q

爐管尺寸：Φ60×1500mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：該產品廣泛應用于3D增材制造、新能源材料和粉末新材料行業的中試燒結和產品批量熱處理

產品型號：STG-60-12Q

爐管尺寸：Φ60×1000mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：該產品廣泛應用于3D增材制造、新能源材料和粉末新材料行業的中試燒結和產品批量熱處理

產品型號：STGX-150-12Q

爐管尺寸：Φ150×1500mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：該產品廣泛應用于3D增材制造、新能源材料和粉末新材料行業的中試燒結和產品批量熱處理

產品型號：STG-80-12-3

爐膛尺寸：Φ80×2000mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：三溫區管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理。

產品型號：STG-120-12-3

爐膛尺寸：Φ120×1500mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：三溫區管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理。

產品型號：STQ-90-17

爐膛容積：90L

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：箱式氣氛爐爐體法蘭式密封結構，在材料的熱處理過程中，可以通入氮氣、氬氣、氧氣等保護氣體，用于碳材料、金屬材料、生物質材料的熱處理，也可用于鋰電池三元材料的燒結。

產品型號：STM-1-10

爐膛尺寸：100 x100x100mm

額定溫度：1000℃

控溫精度：±1℃

應用領域：1000℃mini馬弗爐(箱式電阻爐)主要應用于高等院校、科研院所、環境監測、醫療等行業的新材料領域的燒結和高溫熱處理。

產品型號：STQ-245-12

爐膛尺寸：700*700*500mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：1200℃箱式氣氛催化劑焙燒爐，主要用于工廠、實驗室、科研院所等進行氣氛催化劑生產、小試、中試的批量生產。